电子废水回用：高精度处理与分质回用体系

　　电子工业废水具有成分复杂、毒性强、水质波动大的特点，尤其在半导体制造过程中产生的含氟废水、含氰废水和酸碱废水，对处理工艺的精度和稳定性提出了很高要求。基于纳滤(NF)与超滤(UF)的分质处理技术，可实现重金属离子、有机物和溶解性盐类的高效分离，构建起 “分类收集 — 精准处理 — 分质回用” 的闭环系统。

　　含氟废水处理采用 “化学沉淀 + 纳滤” 工艺，首先通过投加氯化钙和聚合氯化铝，利用氟化钙的低溶解度特性形成沉淀物，结合高效斜板沉淀池实现固液分离，将氟离子浓度初步降至 10mg/L 以下。后续纳滤环节选用荷电型纳滤膜，通过筛分效应与电荷排斥的双重作用，对氟离子及二价以上重金属离子进行选择性截留，使出水氟化物浓度稳定在 1mg/L 以下，满足严格的排放标准。含氰废水处理则遵循 “两级破氰 + 超滤” 路线，一级破氰通过次氯酸钠氧化破除游离氰，二级破氰针对络合氰化物，通过调节 pH 值与氧化剂投加量，实现完全破氰，再利用超滤膜的精密筛分作用去除残留的重金属络合物，确保氰化物浓度低于 0.3mg/L。

　　酸碱废水经中和调节至中性后，进入反渗透(RO)系统进行深度脱盐。RO 单元采用抗污染型复合膜，通过优化膜元件排列方式(如一级两段式结构)，在降低膜表面污染物沉积的同时，提升水的回收率。产水电阻率可达 15MΩ・cm 以上，满足电子级纯水对离子杂质的严苛要求，可直接回用于清洗、配液等生产环节。系统采用模块化设计，各处理单元可独立运行或组合联动，能够根据不同产品的生产工艺灵活调整处理流程，适应电子行业多品种、小批量的生产特点。

　　为应对水质波动问题，该工艺配备了在线水质预警系统，通过传感器实时监测进水的氟离子浓度、氰化物含量及电导率等参数，自动触发加药系统或切换处理流程，确保出水水质稳定达标。同时，膜组件采用错流过滤与脉冲反洗技术相结合的方式，通过周期性的高速水流冲刷和化学药剂清洗，有效延缓膜污染，将膜使用寿命延长至 3-5 年。这种高精度处理与智能化控制的深度融合，不仅实现了电子废水的高效回用，更构建了从废水产生到资源再生的全链条技术体系，为电子行业的绿色制造提供了可持续的解决方案。